廈門光刻膠   美國光刻膠

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• 專為高分辨率應(yīng)用優(yōu)化，分辨率可達(dá)?<10nm?，顯著PMMA 495系列（常規(guī)需求）
  

• ?敏感度?：
  典型電子束曝光劑量范圍為?50-150mJ/cm2?，具體需根據(jù)分子量和配方調(diào)整
  

• ?耐刻蝕性?：
  具有的?耐干法刻蝕性能?，適合后續(xù)干法刻蝕工藝
  

• ?粘附性?：
  與基底（如硅、玻璃等）粘附性良好，減少圖形轉(zhuǎn)移過程中的剝離風(fēng)險

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