BN303系列紫外負(fù)型光刻膠是一類(lèi)采用寬譜紫外線曝光的負(fù)性光刻膠，主要用于中小規(guī)模集成電路、分立器件及其它微型器件的制作。　本產(chǎn)品粘度可以在２９－１００mPa.s范圍內(nèi)調(diào)整， 覆蓋光刻膠膜厚范圍0.85-2.1um.　實(shí)用分辨率可達(dá)5μm, 在多種基片上均有良好的粘附性,抗?jié)穹ǜg性能良好。

BN308系列紫外負(fù)型光刻膠是一類(lèi)采用寬譜紫外線曝光的負(fù)性光刻膠，主要用于分立器件及其它微型器件的制作。本產(chǎn)品粘度可以在140－500mPa.s范圍內(nèi)調(diào)整， 覆蓋光刻膠膜厚范圍2.2-6um.　實(shí)用分辨率可達(dá)8μm, 在多種基片上均有良好的粘附性,抗?jié)穹ǜg性能

 KMP BP212系列光刻膠是用于分立器件的寬譜正性光刻膠，適用于寬譜、G線及I線曝光，為酚醛樹(shù)脂/重氮萘醌體系，本系列產(chǎn)品有不同的粘度，可以覆蓋膜厚從0.75um到2.5um，具有分辨率高、感光速度快及工藝窗口大等優(yōu)點(diǎn)。