鍍錫添加劑硫酸鹽啞光錫霧錫
產(chǎn)品別名 |
鍍錫添加劑,鍍錫藥水,啞光錫 |
面向地區(qū) |
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1. 鍍層細(xì)膩純白,平整度高,可焊性。
2. 添加量少,成本低,陰極,易上鍍。
3. 工藝操作范圍廣,在寬電流密度范圍內(nèi)能產(chǎn)生可焊性的抗蝕鍍層。
4. 添加劑單一開(kāi)缸,單一補(bǔ)充,添加劑使用簡(jiǎn)單,鍍液調(diào)整方便。
5. 鍍液分散性能優(yōu)良,常溫1安培5分鐘,哈氏試片整片為結(jié)晶細(xì)膩的銀白色全啞光鍍層。
6. 鍍層結(jié)晶細(xì)膩,抗蝕性能優(yōu)良,經(jīng)高溫老化后,鍍層不變色,可焊性能不下降。
【操作條件】
硫酸亞錫
15-35克/升
硫酸
90-100毫升/升
SN-100A 開(kāi)缸劑
20毫升/升-25毫升/升
SN-100B 光亮劑
0.5毫升/升 (開(kāi)缸時(shí)可以不加)
溫度
1℃ - 8℃
一、鍍液組成
成分
單位
范圍
佳值
錫(Sn)
g/L
15-35
20--30
硫酸(試劑級(jí))
mL/L
90-110
100
SN-100A 開(kāi)缸劑
mL/L
20-50
20-30
SN-100B 光亮劑 mL/L 0.2-0.5 開(kāi)缸時(shí)可以不加
二、工藝操作條件
參數(shù)
單位
范圍
電流密度
A/dm2
0.5-2
鍍液溫度
℃
1℃ - 8℃
陽(yáng)極面積:陰極面積
2:1
陽(yáng)極
純錫球或錫板(純度99.9%以上)
三、工藝設(shè)備:
1、電鍍槽:所用材料耐酸,建議用PP、PVC等材料,不可使用金屬鍍槽。
2、溫度控制:需要設(shè)置適當(dāng)?shù)睦鋮s設(shè)備。
3、攪拌裝置:建議使用泵循環(huán)及陰極移動(dòng)。
4、過(guò)濾器:采用5-8微米的濾芯連續(xù)過(guò)濾,濾芯要耐腐蝕,每小時(shí)流量應(yīng)高達(dá)總液量的3-5倍。
5、陽(yáng)極:采用純錫陽(yáng)極
6、整流器:電流波幅不應(yīng)超過(guò)5%。
7、其他設(shè)備:通風(fēng)設(shè)備,安培計(jì)等。
四、配槽方法:
1、 經(jīng)清洗干凈的鍍槽中注入2/3的純水;
2、 在緩慢攪拌的情況下,加入定量的98%的試劑硫酸;并等待鍍液的溫度降到室溫
3、 在緩慢攪拌的情況下,加入定量的硫酸亞錫濃液;
4、 在緩慢攪拌的情況下,加入定量的SN-100A添加劑;
5、 加純水至工作標(biāo)準(zhǔn)液位,攪拌均勻,將鍍液的溫度降到7度或以下
充分?jǐn)嚢杈鶆蚝罂蛇M(jìn)行試鍍。
五、鍍液維護(hù)管理:
1、定期取樣分析鍍液中錫和酸的濃度,向鍍液中補(bǔ)加硫酸,將鍍液組成控制在操作范圍之內(nèi)。
2、穩(wěn)定地調(diào)控好操作時(shí)的溫度、電流密度和攪拌速度,可以獲得外觀一致的鍍層;
3、保持溶液的清潔,防止金屬雜質(zhì)和其它有機(jī)物的進(jìn)入,定期使用瓦楞型的陰極進(jìn)行低電流密度(0.1~0.5 A/dm2)電解。如遇有機(jī)雜質(zhì)污染鍍液,加入2-4g/L活性炭連續(xù)過(guò)濾4-8小時(shí)。切勿混入氯離子,鍍液中氯離子超過(guò)0.3g/L,會(huì)使鍍層出現(xiàn)晶須及深鍍能力下降。
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