穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。

在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類型，根據(jù)需要進行調(diào)配。

2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，及時更換或補充添加。

氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。

優(yōu)點：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產(chǎn)生，關注環(huán)保和人體健康安全。

氧化鋁拋光液是一種以多晶氧化鋁為主，氧化鋁顆粒大小均勻，相比氧化硅拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節(jié)約30-50%，加工流程縮短，且不會在工件表面上形成硅元素結(jié)晶，減少清洗成本。

注意事項:

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術具有特的化學和機械相結(jié)合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據(jù)所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果?；瘜W機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產(chǎn)生很大的影響。

氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。

氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復合材料的研磨及拋光等表面處理：
1、手機殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學玻璃等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。
2、單晶硅片等半導體、壓電晶學、光學晶體、光學玻璃、光學塑料、計算機硬盤、光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、
3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。
4、汽車油漆打磨拋光，樹脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。
5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來回拋磨，很快就光亮如新，無一點擦痕。