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化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 可根據(jù)客戶需求設(shè)計(jì)尺寸，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求； 采用多05月27日 -
立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū)，溫度均勻性好； 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密05月27日
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該立式化學(xué)氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。 技術(shù)特征 采用先進(jìn)的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動(dòng)范圍??；01月15日
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100000.00元設(shè)備介紹： 本設(shè)備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低09月11日
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180000.00元一、產(chǎn)品簡介： 該設(shè)備ZYG1700-100是一款非標(biāo)定制的小型雙溫區(qū)管式爐；可實(shí)現(xiàn)一邊進(jìn)氣做氣象沉積同時(shí)還能抽真空，保持爐膛內(nèi)的真空度為負(fù)壓的狀態(tài)；真空系統(tǒng)由干泵+分子泵組成真空度可達(dá)6.67..12月11日
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39800.00元鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商，客戶服務(wù)和售后服務(wù)。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設(shè)..06月14日
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1.00元供應(yīng)石墨烯氣相沉積法鴻峰牌CVD系統(tǒng) 該設(shè)備為咸陽鴻峰窯爐設(shè)備有限公司自主設(shè)計(jì)的化學(xué)氣相沉積爐，主要針對石墨烯薄膜的連續(xù)式沉積，屬于宏量制備系統(tǒng)。 設(shè)備特點(diǎn)： 1.該設(shè)備可以實(shí)02月28日
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設(shè)備名稱：鴻峰牌CVD設(shè)備化學(xué)氣相沉積爐 設(shè)備用途： 真空CVD設(shè)備&化學(xué)法氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐主要用于實(shí)驗(yàn)室新型炭材料和膜材料的化學(xué)沉積實(shí)驗(yàn),屬于管式高溫回轉(zhuǎn)爐。 該設(shè)備燒結(jié)溫03月12日
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真空感應(yīng)化學(xué)氣象沉積爐哪家好，真空熔煉爐代理產(chǎn)品詳情 真空感應(yīng)化學(xué)氣相沉積爐是在真空或保護(hù)氣氛下，利用中頻感應(yīng)原理將置于感應(yīng)線圈內(nèi)的石墨坩堝加熱，石墨坩堝中放入被制備的03月31日
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），價(jià)格咨詢15301310116 北京麥迪森科技有限公司 符合CE認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)的三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與04月18日
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（一）產(chǎn)品用途：對于石墨烯生長工藝非常合適。制作硅片可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，對于離子注入后的貴金屬，各種黃05月24日
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中國物理氣相沉積（PVD）設(shè)備市場專項(xiàng)調(diào)研及投資前景預(yù)測報(bào)告2024-2030年【報(bào)告編號】56004【出版日期】2024年7月【交付方式】電子版或特快專遞【報(bào)告價(jià)格】【紙質(zhì)版】:6500 【電子版】:6800 ..09月26日
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全球與中國常壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)市場全面調(diào)研及發(fā)展趨勢研究報(bào)告2021-2027年**************************************【報(bào)告編號】 324356【出版日期】 2021年9月【出版機(jī)構(gòu)】 中研華泰研究..09月26日
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29800.00元等離子體化學(xué)氣相沉積（ plasma chemical vapor deposition）簡稱PCVD，是一種用等離子體激活反應(yīng)氣體,促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)..10月28日
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39800.00元鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商，客戶服務(wù)和售后服務(wù)。擁有7年以上真空和薄膜沉積鍍膜技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。氣相沉積濺射其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高..06月14日
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產(chǎn)品用途：主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)成分05月27日
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100.00元氣相自動(dòng)切換閥日本ITO伊藤AX-30A 概述 液化石油氣用自動(dòng)切換式一體型調(diào)壓器左右兩方各有一個(gè)入口，一方（正在使用方）的液化氣容器的供氣壓力不能維持正常供應(yīng)時(shí)，由另一方（預(yù)備方）04月09日
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6000.00元蘇威SOLVAY GALDEN HS 240 HS 260 氣相焊接液 應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體、電子工業(yè)氣相焊接 蒸汽焊接 產(chǎn)品..04月08日
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6000.00元蘇威SOLVAY GALDEN系列 LS 155 LS 165 氣相焊接液 應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體、電子工業(yè)氣相焊接 蒸汽焊接 產(chǎn)品型號:LS 155..04月08日
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ITO日本伊藤LPG調(diào)節(jié)閥氣相切換閥AX-160-0 日本伊藤ITOKOKI分離式自動(dòng)切換閥AX-30A-0，AX-50-0，AX-160-0，AX-210A-0氣相自動(dòng)切換閥/自動(dòng)切換調(diào)壓器/減壓閥/調(diào)壓閥 ?AX系列液化氣自動(dòng)切換調(diào)..12月12日
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