美國光刻膠omnicoat光刻膠增粘劑使用簡(jiǎn)單操作性好

廈門光刻膠 美國光刻膠Omnicoat光刻膠增粘劑由Microchem公司生產(chǎn)，主要用于?增強(qiáng)光刻膠與襯底（如硅片、玻璃等）的粘附性?，尤其適用于電子束光刻膠和SU-8系列光刻膠。其通過化學(xué)鍵合作用減少光刻膠在顯影或刻蝕過程中的脫落風(fēng)險(xiǎn)，提升工藝良率?適配性?：該產(chǎn)

2025年09月02日 11:51:55

美國光刻膠DOWBCB3022-63干法刻蝕光刻膠

廈門光刻膠 美國光刻膠DOW BCB3022-63屬于?Bisbenzocyclobutene (BCB)類厚膠光刻膠?，由Dow Chemical生產(chǎn)，具有高透明度和的垂直度，適用于半導(dǎo)體制造中的圖形轉(zhuǎn)移。其干法刻蝕工藝適配性強(qiáng)，耐高溫（可耐受120-150℃）且耐腐蝕?分辨率與工藝參數(shù)?：搜索結(jié)果未

2025年09月02日 11:44:37

美國光刻膠AR300-80new光刻膠增粘劑

廈門光刻膠 美國光刻膠AR 300-80new 是一種特殊功能光刻膠增粘劑/增附劑，主要用于增強(qiáng)光刻膠與基材的粘附性。該產(chǎn)品屬于半導(dǎo)體材料和電子化學(xué)品，適用于紫外光刻膠、電子束光刻膠以及特殊功能用光刻膠等應(yīng)用場(chǎng)景主要特性與優(yōu)勢(shì)?增強(qiáng)附著力?：有效促進(jìn)光刻膠

2025年09月02日 11:36:56

美國光刻膠半導(dǎo)體電子束膠PMMA950系列

廈門光刻膠 美國光刻膠專為高分辨率應(yīng)用優(yōu)化，分辨率可達(dá)?<10nm?，顯著PMMA 495系列（常規(guī)需求）?敏感度?：典型電子束曝光劑量范圍為?50-150mJ/cm2?，具體需根據(jù)分子量和配方調(diào)整?耐刻蝕性?：具有的?耐干法刻蝕性能?，適合后續(xù)干法刻蝕工藝?粘附性?：與基

2025年09月02日 11:34:26

美國光刻膠FUTURREX負(fù)性光刻膠NR77-1000PY

廈門光刻膠 美國光刻膠負(fù)性光刻膠，顯影過程中形成抗蝕劑底切結(jié)構(gòu)?主要功能?：高深寬比、耐刻蝕、耐高溫(可達(dá)180°C)、化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)?應(yīng)用優(yōu)勢(shì)?：垂直性好、易于控制底切程度、適合圖案化參數(shù)類別具體指標(biāo)厚度范圍0.7μm-2.1μm耐溫性能高180°C光敏特性對(duì)波長(zhǎng)<

2025年09月02日 11:25:29

美國光刻膠AZ4330環(huán)氧樹脂光刻膠

廈門光刻膠 美國光刻膠AZ 4330屬于?環(huán)氧樹脂光刻膠?，通過酸催化下環(huán)氧分子與酚醛樹脂交聯(lián)反應(yīng)形成負(fù)性光刻膠，具有高深寬比和的陡直度（接近垂直襯底表面），適用于圖形轉(zhuǎn)移?分辨率?：支持亞微米級(jí)圖形（≤1μm線寬），顯影寬容度寬，單次顯影即可完成圖形轉(zhuǎn)移

2025年09月02日 11:22:29