廈門光刻膠   美國光刻膠

• LOL 2000屬于?電子束光刻膠?，通過電子束曝光實(shí)現(xiàn)高分辨率圖形轉(zhuǎn)移，具有?高深寬比?特性，光刻后能形成?陡直度?的側(cè)壁結(jié)構(gòu)（基本垂直于襯底表面），適用于納米級精密加工
  

• ?分辨率?：支持?130nm-300nm?分辨率，適配?0.5μm線寬?的雙層膠工藝
  

• ?工藝兼容性?：適用于?Lift-off工藝?，需搭配上層光刻膠使用，顯影液推薦?MIBK混合溶液?
  

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• ?顯影液?：需使用顯影液（如MIBK

  混合溶液），顯影時間通常為20-60秒
  

• ?存儲要求?：需?低溫保存?（≤20℃），保質(zhì)期一般為6個月
  

• ?配套工藝?：可能需配合增粘劑或稀釋液使用，具體參數(shù)需參考廠商技術(shù)文檔

• 半導(dǎo)體制造中的高分辨率圖形轉(zhuǎn)移（如納米級電路、MEMS器件）
  

• 科研領(lǐng)域的物理研究、量子器件開發(fā)