廈門光刻膠   美國光刻膠

工藝適配性?

• ?顯影液?：
  未明確提及顯影液，但同類環(huán)氧樹脂光刻膠通常使用MIBK

  混合溶液或2.38% TMAH溶液

• ?后烘條件?：
  參考通用工藝，建議后烘溫度為90-120℃，時間1-2分鐘，需避免超過光刻膠熔點（約130-150℃）
  

• ?存儲要求?：
  需避光、低溫（≤20℃）保存，保質(zhì)期約6個月，開封后需防潮防震
  

• 半導(dǎo)體器件制造（如IC、MEMS）中的圖形化

• 電子束光刻掩模版制作及納米級科研器件開發(fā)

  
  

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  美國皮脂灰塵皮脂皮脂乳劑

  11000元

  產(chǎn)品名：美國進口,灰塵皮脂,人工皮脂,皮脂乳劑

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  美國皮脂SYNTHEICSEBUM人工皮脂

  8500元

  產(chǎn)品名：美國進口,人工皮脂,sebum

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  美國光刻膠JSRWPR5100濕法腐蝕光刻膠垂直性好耐高溫

  面議

  產(chǎn)品名：光刻膠,美國光刻膠

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  美國光刻膠精密電子蝕刻液適用于各種金屬

  面議

  產(chǎn)品名：光刻膠,美國光刻膠

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  美國光刻膠omnicoat光刻膠增粘劑使用簡單操作性好

  面議

  產(chǎn)品名：美國光刻膠,光刻膠

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  美國光刻膠DOWBCB3022-63干法刻蝕光刻膠

  面議

  產(chǎn)品名：美國光刻膠,光刻膠

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  美國光刻膠AR300-80new光刻膠增粘劑

  面議

  產(chǎn)品名：美國光刻膠,光刻膠

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  美國光刻膠半導(dǎo)體電子束膠PMMA950系列

  面議

  產(chǎn)品名：光刻膠,美國光刻膠