美國(guó)光刻膠LOL2000電子束光刻膠

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠LOL 2000屬于?電子束光刻膠?，通過(guò)電子束曝光實(shí)現(xiàn)高分辨率圖形轉(zhuǎn)移，具有?高深寬比?特性，光刻后能形成?陡直度?的側(cè)壁結(jié)構(gòu)（基本垂直于襯底表面），適用于納米級(jí)精密加工?分辨率?：支持?130nm-300nm?分辨率，適配?0.5μm線寬?的雙層膠工

2025年09月02日 17:38:44

美國(guó)光刻膠AZ5214E光刻膠

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠AZ 5214E是一種?正/負(fù)可轉(zhuǎn)換型光刻膠?，專為高分辨率工藝（如lift-off工藝）優(yōu)化，支持正負(fù)圖形轉(zhuǎn)換，適用于復(fù)雜圖形需求?膜厚范圍?：勻膠厚度范圍為?1.5μm~3μm?，較寬的范圍適配不同工藝需求?化學(xué)穩(wěn)定性?：對(duì)金屬鍍膜（如鋁、銅）具有

2025年09月02日 17:31:35

武漢鹽霧試驗(yàn)箱價(jià)格

武漢鹽霧試驗(yàn)箱價(jià)格：該設(shè)備一種主要利用鹽霧試驗(yàn)設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來(lái)考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗(yàn)。通過(guò)考核對(duì)材料及其防護(hù)層的鹽霧腐蝕的能力，以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較，同時(shí)可考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕的能力;該產(chǎn)品造用于

2025年09月02日 15:45:47

美國(guó)光刻膠電子束膠ZEP549A半導(dǎo)體材料

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠ZEP549A屬于?電子束正性光刻膠?，通過(guò)電子束曝光引發(fā)聚合物主鏈斷裂，使曝光區(qū)域溶于顯影液，實(shí)現(xiàn)高分辨率圖形轉(zhuǎn)移。其核心優(yōu)勢(shì)在于無(wú)需掩模的直接寫(xiě)入能力，支持納米級(jí)圖案直寫(xiě)（分辨率可達(dá)<10nm），適用于小批量、的微納結(jié)構(gòu)加工?

2025年09月02日 15:43:42

美國(guó)光刻膠BCB4024-40負(fù)性光刻膠光致抗蝕劑

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠BCB4024-40是一種?負(fù)性光刻膠?（光致抗蝕劑），通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移，具有高深寬比、垂直性好、耐高溫及化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)的特點(diǎn)。?分辨率與厚度?：支持亞微米級(jí)圖形（線寬≤0.5μm），膜厚范圍覆蓋0.1~200μm，可通過(guò)旋涂工藝調(diào)整?敏感

2025年09月02日 15:29:52

武漢鹽霧試驗(yàn)箱價(jià)格

武漢鹽霧試驗(yàn)箱價(jià)格：該設(shè)備一種主要利用鹽霧試驗(yàn)設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來(lái)考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗(yàn)。通過(guò)考核對(duì)材料及其防護(hù)層的鹽霧腐蝕的能力，以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較，同時(shí)可考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕的能力;該產(chǎn)品造用于

2025年09月02日 15:29:20