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產(chǎn)品詳細(xì)介紹

電鍍設(shè)備回收電鍍生產(chǎn)線回收

真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化解決方法：更換蒸發(fā)舟。補充：以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。追問：不好意思，我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時間過長；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達(dá)HV2000--2500。

發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質(zhì)過多，一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達(dá)標(biāo)，都要達(dá)到10—7倍Pa。（不準(zhǔn)確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過高或過低。涂層項目的潛在設(shè)置不合理。真空擴散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。

1）所需設(shè)備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進(jìn)片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結(jié)構(gòu)：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設(shè)計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設(shè)計。
　　6.人機對話：控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話，及時對生產(chǎn)過程進(jìn)行必要干預(yù)。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動系統(tǒng)：滾軸傳動，變頻可調(diào)
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進(jìn)行腔室隔斷，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線采用了均勻進(jìn)氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設(shè)施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當(dāng))。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測控，結(jié)合汪博士開發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

現(xiàn)場實際運行證明丹佛斯FC302驅(qū)動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式，大大減少了原材料的浪費?？刂葡到y(tǒng)調(diào)試和參數(shù)設(shè)置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經(jīng)濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅(qū)動異步電機，又能驅(qū)動同步電機，系統(tǒng)升級時只需簡單地更換電機即可。